產品概述
HMPS-2080SP微波等離子體CVD設備
成都紐曼和瑞微波技術有限公司是專業從事微波能、微波等離子體應用技術研發及其設備生產、具有自主知識產權的高新技術企業。公司靜心鉆研微波等離子體MPCVD系統已有22年的經驗，目前為國內外客戶提供了上百臺MPCVD設備，憑借產品優異的性能和高質量的服務，公司獲得用戶廣泛認可和好評。
HMPS-2080SP微波等離子體MPCVD系統沉積速率快、沉積質量高、沉積面積超過70mm。適合光學、電子、工具級金剛石膜或單晶、石墨烯等的沉積，材質表面處理、低溫氧化物的生長等。
性能特點
◆微波反應腔采用新一代容積圓柱腔體，功率密度大，承載功率高。
◆放電區域直徑可達70mm，均勻沉積區直徑≥68mm。
◆高功率高穩定性固態微波功率源，微波功率輸出穩定性高。
◆進口高精度MFC，噶可靠性壓力控制系統。
◆8L/s雙級旋片真空泵或分子泵（選配）。
◆性能先進，安全、可靠性強、重現性好，操作簡便。
◆多參數實時監測、采集與記錄，PLC屏幕控制，多重聯鎖保護與報警。
技術指標
| （1） | 型號 | HMPS-2080SP |
| （2） | 電源 | AC380±10% V 三相五線制 50Hz，額定輸入＜10KVA |
| （3） | 微波輸出功率 | 0.5~8kW 連續可調 |
| （4） | 功率穩定度 | 優于2% |
| （5） | 紋波 | ≤1% |
| （6） | 微波頻率 | 2450MHz±50MHz |
| （7） | 測溫方式 | 紅外300~1400℃ |
| （8） | 極限真空度 | ≤3.7×10-3Torr或≤6×10-6Torr |
| （9） | 腔體內工作壓力 | 5torr~226torr |
| （10） | 均勻沉積區 | Φ68mm |
| （11） | 放電區 | Φ70mm |
| （12） | 工作氣體 | H2 /CH4 /N2 / O2 (可選CO2 或Ar) ,可擴展為5路 |
| （13） | 真空漏率 | ≤1.0x10 -9Pa·m/s |
| （14） | 工作環境 | 溫度15-40℃，相對濕度≤60%，無腐蝕性氣體 |
| （15） | 冷卻水 | ＞22L/Min |
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